金刚石是一种宽带隙半导体材料。我们最熟悉的普通半导体硅,带隙只有 1.12eV;金刚石,带隙约 5.5eV,属于超宽禁带半导体,是带隙最宽的材料之一,常见的材料还有氮化镓、碳化硅(SiC)。材料能扛住极高的电压、耐高温、性能稳定,适合做高压功率器件、强电场环境下的器件。除此之外,它的折射率可达 2.4,从紫外线到微波的全波段都能保持透光,适合做光子学、光学器件。
但加工难度却十分高。加工过程容易出现黑边、溅射、孔口发黑。单色科技飞秒激光钻孔技术,直击金刚石钻孔核心痛点。
孔周边的黑色溅射残渣,本质是材料孔内熔融的碳物质向外喷出、冷却后沉积形成的。金刚石是 sp³ 碳结构,在高峰值功率作用下,局部区域会发生非热平衡吸收,转变为石墨态 sp² 碳,石墨本身呈黑色,所以孔边会出现肉眼看到的黑边。
这也是金刚石激光加工中最常见的发黑原因之一。
材料被瞬间电离、蒸发、剥离,形成碳颗粒、等离子体羽流和微小碎屑。如果是深孔、小孔,孔内空间有限,烧蚀产物来不及排出,就会像“微型火山口”一样从孔口喷出来。这些再沉积物通常包含:非晶碳、石墨化碳等物质,它们附着在孔边,就会形成黑色环状痕迹或黑色喷溅区。
飞秒激光微加工是制备这类难加工材料器件的核心技术之一,它可以在材料的表面或内部,加工出高精度的微纳尺度结构。 依靠的是非线性光电离过程(比如多光子电离、雪崩电离),飞秒激光与材料的作用只会发生在激光束的焦点范围内,在局部产生极高的电子密度,去除材料。
也就是说,飞秒激光的“冷去除”是阻止金刚石发生相变的利器,但是飞秒超短脉冲激光,也会存在纳米级厚度的石墨化层(加工通常 < 100nm),过高的能量还是会措手不及,所以还得靠工艺优化。把激光能量控制在接近材料损伤阈值的水平加工,更大程度减少附带的热损伤,进一步提升加工精度。
在实际工程中,单晶金刚石和多晶金刚石不应使用同一套质量判断标准。如果是多晶金刚石的晶界处能量更易集中,石墨化沿晶界网状扩散,相比单晶金刚石,孔边相变更不均匀,整体看起来斑驳杂乱,目前仍是待攻克难点。
针对单晶金刚石,我们主要有以下策略。
1、优化能量密度、重复频率与进给速度,控制热积累。
2、采用螺旋旋切工艺替代直接冲孔,提高扫描速度,用多次浅加工,减少局部停留。实测表明孔口飞溅高度可降低60-75%,边缘圆度与直线度也明显改善。
3、高压同轴辅助气协同吹除,进一步提升排屑效率。
工艺开发永远是“和材料对话”的过程。没有一劳永逸的标准,只有持续迭代的判断逻辑和技术调试。我们始终积极碰撞,持续精进研发,用飞秒激光助力更多产品与材料攻克制造难点。